含無塵工作站、高速旋轉塗佈機、高平行度光源ＵＶ曝光機、ＲＩＥ離子反應蝕刻機、自動化顯影機、ＯＭ光學顯微鏡、奈米位儀平台、氧電漿表面改質機。